재질 – 세라믹

♦알루미나(Al2O3)

중후이 지능형 제조 그룹(ZHHIMG)에서 생산하는 정밀 세라믹 부품은 고순도 세라믹 원료(92~97% 알루미나, 99.5% 알루미나, >99.9% 알루미나)를 사용하여 CIP 냉간 등방압 성형으로 제작됩니다. 고온 소결 및 정밀 가공을 통해 치수 정밀도 ± 0.001mm, 표면 평활도 Ra0.1, 사용 온도 최대 1600℃를 달성합니다. 검정, 흰색, 베이지색, 진홍색 등 고객 요구에 따라 다양한 색상의 세라믹을 제작할 수 있습니다. 당사의 정밀 세라믹 부품은 고온, 부식, 마모 및 절연에 강하며 고온, 진공 및 부식성 가스 환경에서 장기간 사용할 수 있습니다.

반도체 생산 장비의 프레임(세라믹 브래킷), 기판(베이스), 암/브리지(매니퓰레이터), 기계 부품 및 세라믹 공기 베어링 등 다양한 분야에 널리 사용됩니다.

AL2O3

제품명 고순도 99 알루미나 세라믹 사각 튜브/파이프/봉
색인 단위 85% Al2O3 95% Al2O3 99% Al2O3 99.5% Al2O3
밀도 g/cm3 3.3 3.65 3.8 3.9
수분 흡수 % <0.1 <0.1 0 0
소결 온도 1620 1650 1800 1800
경도 모스 7 9 9 9
굽힘 강도(20℃) 엠파 200 300 340 360
압축 강도 킬로그램/cm2 10000 25000 30000 30000
장시간 작동 온도 1350 1400 1600 1650
최대 작동 온도 1450 1600 1800 1800
체적 저항 20℃ Ω. cm3 >1013 >1013 >1013 >1013
100℃ 1012-1013 1012-1013 1012-1013 1012-1013
300℃ >109 >1010 >1012 >1012

고순도 알루미나 세라믹의 응용 분야:
1. 반도체 장비에 적용: 세라믹 진공 척, 절단 디스크, 세척 디스크, 세라믹 척.
2. 웨이퍼 이송 부품: 웨이퍼 핸들링 척, 웨이퍼 절단 디스크, 웨이퍼 세척 디스크, 웨이퍼 광학 검사 흡착컵.
3. LED/LCD 평면 디스플레이 산업: 세라믹 노즐, 세라믹 연삭 디스크, 리프트 핀, 핀 레일.
4. 광통신, 태양광 산업: 세라믹 튜브, 세라믹 막대, 회로 기판 스크린 인쇄용 세라믹 스크레이퍼.
5. 내열성 및 전기 절연 부품: 세라믹 베어링.
현재 산화알루미늄 세라믹은 고순도 세라믹과 일반 세라믹으로 나눌 수 있습니다. 고순도 산화알루미늄 세라믹은 Al₂O₃ 함량이 99.9% 이상인 세라믹 소재를 말합니다. 1650~1990°C에 달하는 소결 온도와 1~6μm의 투과 파장 덕분에 백금 도가니 대신 용융 유리로 가공하는 경우가 많으며, 높은 광투과율과 알칼리 금속에 대한 내식성으로 인해 나트륨 튜브로도 사용될 수 있습니다. 전자 산업에서는 IC 기판용 고주파 절연 재료로 사용됩니다. 산화알루미늄 함량에 따라 일반 산화알루미늄 세라믹은 99 세라믹, 95 세라믹, 90 세라믹, 85 세라믹으로 구분됩니다. 때로는 산화알루미늄 함량이 80% 또는 75%인 세라믹도 일반 산화알루미늄 세라믹으로 분류됩니다. 그중 99 알루미늄 산화물 세라믹 소재는 고온 도가니, 내화로관 및 세라믹 베어링, 세라믹 씰, 밸브 플레이트와 같은 특수 내마모성 소재 생산에 사용됩니다. 95 알루미늄 세라믹은 주로 내식성 및 내마모성 부품에 사용됩니다. 85 세라믹은 종종 다른 소재와 혼합되어 전기적 성능과 기계적 강도를 향상시킵니다. 몰리브덴, 니오븀, 탄탈륨 등의 금속 씰과 함께 사용할 수 있으며, 일부는 전기 진공 장치에 사용됩니다.

 

품질 항목 (대표값) 제품명 AES-12 AES-11 AES-11C AES-11F AES-22S AES-23 AL-31-03
화학적 조성: 저나트륨, 소결 용이 제품 % 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
ㅋㅋㅋ % 0.1 0.2 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
Fe₂0₃ % 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
SiO₂ % 0.03 0.03 0.03 0.03 0.02 0.04 0.04
Na₂O % 0.04 0.04 0.04 0.04 0.02 0.04 0.03
MgO* % - 0.11 0.05 0.05 - - -
Al₂O₃ % 99.9 99.9 99.9 99.9 99.9 99.9 99.9
중간 입자 직경 (MT-3300, 레이저 분석법) μm 0.44 0.43 0.39 0.47 1.1 2.2 3
α 결정 크기 μm 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 ~ 1.0 0.3 ~ 4 0.3 ~ 4
형성 밀도** g/cm³ 2.22 2.22 2.2 2.17 2.35 2.57 2.56
소결 밀도** g/cm³ 3.88 3.93 3.94 3.93 3.88 3.77 3.22
소결 라인의 수축률** % 17 17 18 18 15 12 7

* MgO는 Al₂O₃의 순도 계산에 포함되지 않습니다.
* 분말 스케일링 없음, 29.4MPa(300kg/cm²), 소결 온도 1600°C.
AES-11 / 11C / 11F: 0.05~0.1%의 MgO를 첨가하면 소결성이 우수하여 순도 99% 이상의 산화알루미늄 세라믹에 적용 가능합니다.
AES-22S: 높은 성형 밀도와 낮은 소결선 수축률이 특징이며, 슬립 성형 주조 및 치수 정밀도가 요구되는 대형 제품 생산에 적합합니다.
AES-23 / AES-31-03: AES-22S보다 성형 밀도와 요변성이 높고 점도가 낮습니다. 전자는 세라믹에 사용되고, 후자는 내화재용 감수제로 사용되어 인기를 얻고 있습니다.

♦탄화규소(SiC)의 특성

일반적인 특징 주요 성분의 순도(중량%) 97
색상 검은색
밀도 (g/cm³) 3.1
수분 흡수율(%) 0
기계적 특성 굽힘 강도(MPa) 400
영률(GPa) 400
비커스 경도(GPa) 20
열적 특성 최대 작동 온도(°C) 1600
열팽창 계수 RT~500°C 3.9
(1/°C x 10⁻⁶) RT~800°C 4.3
열전도율 (W/m x K) 130 110
열충격 저항 ΔT (°C) 300
전기적 특성 체적 저항률 25°C 3 x 106
300°C -
500°C -
800°C -
유전 상수 10GHz -
유전 손실 (x 10⁻⁴) -
Q 인자 (x 104) -
절연 파괴 전압(kV/mm) -

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♦질화규소 세라믹

재료 단위 Si₃N₄
소결법 - 가스 압력 소결
밀도 g/cm³ 3.22
색상 - 짙은 회색
수분 흡수율 % 0
영률 학점 290
비커스 경도 학점 18-20세
압축 강도 엠파 2200
굽힘 강도 엠파 650
열전도율 와트/mK 25
열충격 저항성 Δ (°C) 450 - 650
최대 작동 온도 °C 1200
체적 저항 Ω·cm > 10 ^ 14
유전 상수 - 8.2
절연 강도 kV/mm 16